
不活性ガスを一切使用せず
低電流で簡単スパッタリング
導電性のない試料のSEM観察を行う際など、
試料表面の帯電防止用コーティングに最適な卓上型のスパッタリング装置です。
洗練されたコンパクトなデザインと
タッチパネルを採用したシンプルなUIが
快適な操作性をお約束致します。
概要
- 不活性ガス不要
 - ワンタッチで真空引きからコーティングまで実行
 - 条件はライブラリーへ保存 (最大10個)
 - サンプルは最大7個まで同時加工
 - 低電流によるサンプルへのダメージ軽減
 - Au,Ag,Ptによる成形(最大50mmφ)
 - 本体+ポンプ+ターゲット1枚のセットで
即日使用可能 
参考動画
仕様
本体

| 外形寸法 | 350×210mm (H230mm) | 
|---|---|
| 本体重量 | 10kg | 
| 電源 | 110V±10%、50/60Hz | 
| イオン電流 | 1~10mA (1mA / step) | 
| スパッタ処理時間 | 1~600秒(1sec / step)※10mA 100秒で約15nmの成形 | 
| ターゲット材質 | Au, Ag, Pt (50mmφ / 99.99%) | 
| チャンバーサイズ | 140mmφ(H100mm) | 
| 対応サンプルサイズ | 50mmφ(H30mm) | 
真空ポンプ

| 型式 | VPS100W | 
|---|---|
| 方式 | ロータリー | 
| 到達圧力 | 2.0 X 10-1 Torr | 
| 排気速度 | 100L / min | 
| 電源 | 110V±10%、50/60Hz | 
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