研究開発用卓上型フリップチップボンダーM90

  • 研究開発・試作に特化したベストセラーモデル
  • コンパクトな卓上型で高精度・高荷重実装を実現
  • 多品種デバイス切替えが容易
  • マニュアル操作ベースのオリジナルソフトウェアでユーザー任意の実装プロセスを柔軟に構築

研究開発や試作向けのラボ用途に最適な卓上型フリップチップボンダーです。
熱圧着から超音波接合、接着剤塗布まで幅広いボンディング方式に対応し、
コレットの交換だけで多様なデバイスに柔軟に対応。
コンパクトながらも最大400Nを超える荷重レンジと高い再現性を備え、小回りの効く“万能ツール”として活躍します。

特長・アプリケーション

特長

  • 多品種デバイス開発、実験・試作用途に適したマニュアル機
  • 位置決め操作は、カメラ映像を見てジョグ操作によりティーチングするマニュアル仕様
  • ボンディングプロセスはモータ駆動の為、作業者の技量・経験に左右されずに高精度位置決め搭載可能
  • ピックアップ、ボンディングや加熱、接着剤塗布、超音波発振など実行タイミングは手元コントロー/ソフトウェア表示ボタンで操作

アプリケーション

  • 半導体IC、センサーデバイス、MEMSの実装
  • 光デバイス実装(LD、PD、VCSELなどの光素子やLED、イメージセンサー)
  • 光通信・RFデバイス、高周波モジュールのアッセンブリ(5G・6G通信モジュール、ミリ波デバイス、RFIDタグ)
  • マイクロLEDディスプレイ(マストランスファー)
  • パワー半導体のダイボンディング
  • SiC・GaNなど次世代パワー半導体向け接合材料評価(Au・Ag焼結材、シンタリング材料)
  • 先端パッケージング(2.5D/3D実装、チップレット、Cu-Cu直接接合、ハイブリッド接合)

装置外観

オプション

加熱機能(コンスタントヒータ・パルスヒータ)

ツールヘッド、ステージともに加熱機能を搭載可能。あらゆる熱圧着工法に柔軟に対応します。

  • 加熱温度
    コンスタントヒータ:R.T. ~ 200℃
    パルスヒータ   :R.T. ~ 450℃
  • 加熱エリアサイズ
    コンスタントヒータ:ピックアップツール(コレット)形状に依存
    パルスヒータ   :最大50mm角
  • 昇温レート
    100℃/sec以上(パルスヒータ)
  • 機能
    過昇温防止
    温度プログラム制御、強制冷却・降温制御(パルスヒータ)

※特注仕様も承ります。ご相談ください。

不活性ガス(N2)雰囲気対応

N2をはじめとした不活性ガス雰囲気下での加熱処理に対応。
目的のワーク形状、寸法に応じて最適化されたステージ周囲カバーを設計・製作し、100ppm以下の低酸素濃度環境を構築します。

  • 用途
    AuSnなどはんだ共晶接合、Cu-Cu直接接合(酸化防止、塗れ性向上)

※詳細はお問い合わせください。

接着剤・ペースト塗布

導電性/非導電性接着ペーストやACP(異方導電性ペースト)、フラックス、アンダーフィル剤の塗布に適用可能な、高精度エアパルス式ディスペンサーを装置本体内部に組込み可能。
自社製作のソフトウェアに塗布プロセス条件設定、塗布高さ位置設定機能を備えております。
標準搭載モデル:武蔵エンジニアリング社 ML6000X

※上記モデル以外の組込み対応も可能です。

超音波接合ユニット

ツールヘッドにAu-Au接合に有効な超音波ユニットを搭載可能。
超音波アシストにより、通常約300℃の加熱が必要なAu-Au接合においても低温での接合が可能となります。接合ワークに対する超音波伝達効率が最適化されたオリジナルのヘッドユニットを製作し、熱圧着仕様のヘッドユニットとの交換による多用途対応が可能となりました。

平行度(あおり)調整機能

上下ワークの平行を厳密に保ったまま、信頼性の高い接合を実現するための各種オプションをご用意しております。

  • レーザー変位計(サブミクロン分解能で傾きズレを測長)
  • 自動倣い機構(倣い動作後にロック→平行を保ったまま接合)
  • 自動あおり調整機構(レーザー変位計等で取得した傾きズレを自動補正)

※詳細はお問い合わせください。

局所クリーンユニットNEW!

装置本体の左右に卓上型クリーンユニットを配置するだけで、接合エリア周辺のみクリーン環境を構築することが可能となりました。
オープンな一般環境に装置が設置された状態であっても、局所的にISOクラス1を維持したままワーク接合作業を行うことが可能です。

主な仕様

モデル名 M90
対応サイズ チップ 最小:0.1mm~
基板 最大:50mm
チップ供給 手動(トレイ設置)、FaceDown
基板供給 手動
実装精度※1 ±5μm
高精度モデルあり(<±2μm)
荷重 0.5N~30N
高荷重仕様あり(最大400N)
アライメント方法 X-Yアライメント : マニュアル(電動・ソフト操作)
θアライメント : マニュアル(手動)
プロセスタイミング制御 ユーザー任意(ソフト操作)
寸法※2 W1160 x D760 x H1300 (mm)
重量(約) ※2 150kg

※1:当社標準条件にて
※2:専用架台含む

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