
半導体の品質にこだわるなら、
洗浄にもこだわる。
1つのチャンバー内で薬液処理から
リンス乾燥までのフルプロセスの実現
薬液の温調循環再生利用も可能であり
コスト削減・環境負荷低減へ
概要
- ワンチャンバーでプロセスが完結
- 薬液の温調循環再生利用が可能で省エネルギー
- アルカリと酸の基板処理を同一チャンバー内で処理可能
- シールド板が付属し、プロセス中の薬液の飛散を抑えることが可能
- エッチングと有機剥離も同一装置内で処理可能
- エッチングからマスクレジスト除去まで一気通貫処理可能
- 自動化により作業者の負荷軽減、人的ミスのリスク低減
- 極薄・脆弱な基板でも安心して処理ができ、製品品質の向上
主仕様

使用用途 | 有機洗浄/リフトオフ/レジスト剥離/洗浄 |
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装置寸法 | W2000×D1850×H1960 mm |
対象ウエハサイズ | 4インチ、6インチ、8インチ |
電源 | 200V、3層、50/60Hz |
処理液 | 有機系剥離液、純水 |
薬液供給 | 薬液循環回収 |
レシピ数 | 40 |
ステップ数 | 50 |
※ご要望に応じて、その都度仕様は変更となります。
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