卓上型シランCVD成膜装置
LabCoat(ラボコート) / EcoCoat(エココート)

卓上型シランCVD成膜装置
プラズマ洗浄(EcoCoatのみ)~ワーク脱水(デハイドレーション)~シランCVD~ガス排出まで
チャンバー内で自動一括処理できる、R&D向けの卓上型シランCVD装置です。
無機物と有機物の接着に有効なSAM膜(自己組織化単分子膜)を基板上に形成します。

ワークの温度、蒸気温度、蒸気圧及びCVD処理時間な、どプロセス中の全てのパラメータを
コントロールすることができ、様々なアプリケーションに対して最適な表面処理の結果が得られます。
卓上小型で設置場所を問わずR&D、少量生産用途に最適なシステムです。

アプリケーション

  • SAM膜(自己組織化単分子膜)の形成
  • シランカップリング処理(有機物と無機物の化学的結合に有効)
  • 表面改質処理(親水性・疎水性コントロール)
  • スライドガラスへのシランコート
  • ウェハのフォトレジスト接着性向上(HMDS処理)
  • マイクロアレイ シランと基板の接着
  • 摩擦ダメージ(スティクション)防止の為のMEMSコーティング
  • バイオMEMSやバイオセンサのドリフト防止コーティング
  • 金属材料の防食(さび止め)コーティング
  • 生体適合性の向上    etc….

装置特長

  • アミノシラン、エポキシシラン、メルカプトシラン、APTES, FDTS etc…
    ご用途に応じた多様なシランカップリング剤を使用できます
  • ワークの温度、蒸気温度、蒸気圧及びCVD処理時間など
    全てのパラメータをコントロールし、最適な表面処理結果が得られます
  • 高い温度安定性でムラの無い膜を形成
  • チャンバー内で全行程自動一括処理される為、安全性が非常に高い
  • ベーパープライム方式は、スピンコート方式と比較して薬液使用量を約99%削減、
    MEMSなどの立体構造物も問題なく処理可能
  • 205℃以下の低温プロセス蒸着による、高い汎用性

CVDプロセス前のプラズマ洗浄 (EcoCoat)

プラズマ洗浄中のチャンバー内部イメージ(EcoCoat)
図1. プラズマ洗浄中のチャンバー内部イメージ
(EcoCoat)

EcoCoatでは、CVDプロセス前にプラズマ洗浄を行うことができます。
YES社のプラズマ洗浄プロセスは以下の特長があり、
あらゆるワークに対応可能な装置設計となっております。

①40kHzの低周波数プラズマ
13.56MHzの高周波プラズマと比較して、
熱損失が少なく効率の良いプラズマ処理。
(少ない電力消費で高い処理結果を実現)

②平行平板式のチャンバーデザイン
ワークの大きさ(高さ)に応じてトレイをレイアウト可能
電極の役割を果たすトレイ間で面内全体にプラズマが発生する為、
温度安定性が高く、再現性の高い処理結果を実現

Eco Coatのプロセスチャート(参考)

キャプチャ

 

仕様

製品名 LabCoat EcoCoat
適合クリーンルーム Class 10
チャンバーサイズ (約)
W × D × H
22 × 26 × 22 cm 41 × 46 × 41 cm
本体サイズ (約)
W × D × H
97 × 70 × 56 cm 116 × 98 × 113 cm
キャパシティ
(ウェハの場合、25枚/カセット)
6″ ウェハ 2カセット 4″,6″ ウェハ 8カセット
8″ ウェハ 2カセット
12″ ウェハ 1カセット
キャパシティ
(スライドの場合、別途トレイ&シェルフが必要)
約300枚 約2,000枚
スループット 1バッチ / 時 (設定するレシピにより異なります)
動作温度 常温 – 205℃
温度安定性 ± 5℃
薬品数(フラスク数) 1個 (オプション 最大3個) 2個 (オプション 最大3個)
薬品使用量 0.1 – 5 ml 0.1 – 3 ml
マスフローコントローラ 無し オプション 最大3個
レシピ数 6 レシピ CVD : 6 レシピ
プラズマ : 4 レシピ
プロセス時間 1 秒 – 24 時間 1 – 999,999 秒
時間設定分解能 1 秒
RFプラズマ周波数 無し 40kHz
RFプラズマパワー 無し 100 -1000 W
プラズマガス入力ポート 無し 3個
プロセスガス入力ポート 1個
電源 単相 208V, 15A, 50/60Hz 単相 208V, 30A, 60Hz

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