イオンスパッタ装置G20

不活性ガスを一切使用せず
低電流で簡単スパッタリング

導電性のない試料のSEM観察を行う際など、
試料表面の帯電防止用コーティングに最適な卓上型のスパッタリング装置です。

洗練されたコンパクトなデザインと
タッチパネルを採用したシンプルなUIが
快適な操作性をお約束致します。

概要

  • 不活性ガス不要
  • ワンタッチで真空引きからコーティングまで実行
  • 条件はライブラリーへ保存 (最大10個)
  • サンプルは最大7個まで同時加工
  • 低電流によるサンプルへのダメージ軽減
  • Au,Ag,Ptによる成形(最大50mmφ)
  • 本体+ポンプ+ターゲット1枚のセットで
    即日使用可能

参考動画


仕様

本体

外形寸法 350×210mm (H230mm)
本体重量 10kg
電源 110V±10%、50/60Hz
イオン電流 1~10mA (1mA / step)
スパッタ処理時間 1~600秒(1sec / step)※10mA 100秒で約15nmの成形
ターゲット材質 Au, Ag, Pt (50mmφ / 99.99%)
チャンバーサイズ 140mmφ(H100mm)
対応サンプルサイズ 50mmφ(H30mm)

真空ポンプ

型式 VPS100W
方式 ロータリー
到達圧力 2.0 X 10-1 Torr
排気速度 100L / min
電源 110V±10%、50/60Hz

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