ウエハー/マスク洗浄装置ParticleClean

研究開発用に最適な卓上型の洗浄装置です。CMPといった研磨後のウエハー洗浄など、手洗いの代替としてご使用頂けます。

特徴

  • スクラブと2流体(ミスト)のダブル洗浄で優しく強力にパーティクルを除去
  • 本体の重量は30kg。小型ボディーで場所を選びません
  • 試料をセットしてボタンを押すだけで洗浄から乾燥まで自動処理
  • 充実した安全対策(漏水センサー、リッド開閉センサー、流量/圧力センサー、HEPAフィルター内蔵、etc…)

手洗いと洗浄装置の違いとは?

CMP などで使用する研磨剤にはコロイド粒子が含まれており、乾燥すると除去することが出来ません。そのため、研磨が完了したあと直ぐに試料を洗浄する必要があります。ウォーターガンで洗浄するだけの手洗い方法では、研磨剤に含まれる粒子を除去しきれず、次の製造プロセスに悪影響を及ぼすことがあります。ハイソルのParticleCleanでは、柔らかいPVA パッドでスクラブ洗浄し、更に純水ミストを高速衝突させる2 流体洗浄を行うことで、試料表面にダメージを与えること無く強力に洗浄することが可能です。洗浄だけでなく、スピン乾燥にも対応しておりますので、「スクラブ洗浄」「2 流体洗浄」「リンス」「乾燥」といった一連のプロセスを一台の装置で行うことが出来ます。また、プロセスレシピを保存することで、試料の種類が変わってもレシピを呼び出すだけで洗浄を開始します。

洗浄から乾燥までオートマチック

シンプルな構造の中に秘められた多くの利点

■洗浄品質の人為的なバラツキが無くハイレベルな表面状態を得られる
■PVA や極細ナイロン、ウレタン等、試料に応じた最適なブラシを選択
■スピン乾燥時の気流制御により、ミスト等の再付着を防止
■純水ミストを試料に高速衝突させる2 流体洗浄による大幅な「節水効果」
■様々な試料サイズに対応した柔軟な設計
■センサーにより蓋が開いている時にはプロセスが開始しない安全機構
■プロセス動作中に蓋が開かないリッドロック機構

洗浄から乾燥までの一連のプロセス

ParticleClean仕様

対応ウエハーサイズ 2 – 6インチウエハー ※お問合せください
電源 100VAC 50/60Hz, 15A
本体サイズ 800mm(W) x 450mm(D) x 552mm(H)<蓋閉時>~704mm(H)<蓋開時>
本体重量 約30kg
装置本体の材質 PVC

お問い合わせ

フォームが表示されるまでしばらくお待ち下さい。

恐れ入りますが、しばらくお待ちいただいてもフォームが表示されない場合は、こちらまでお問い合わせください。

個人情報保護方針(プライバシーポリシー)

  • 個人情報に関する法令・規範を遵守します。
  • 当社はお客様の個人情報への不正アクセス、紛失、破壊、改ざん及び漏洩等の防止に努めます。
  • 個人情報は法令に基づき開示される以外は、個人情報をお客様に明示した利用目的の範囲内で取扱い、第三者に譲渡、提供はしません。
  • 当社は個人情報保護に対する取組みを継続的に見直し、適宜改善します。