ケミカルポリッシング装置
CP3000/4000

研磨業界において50年以上の歴史を持つロジテック社(英国)が提供する、最高レベルの研磨装置と技術力が、今まで不可能であったプロセスを確立します。
日本国内においても、化合物半導体の試作や量産においてロジテック社のケミカルポリッシング装置が使用されております。

CP3000
モデル:CP3000
(3, 4インチウエハーに対応)
CP4000
モデル:CP4000
(3, 4, 6, 8インチウエハーに対応)

製品の特長

CP3000/4000は結晶構造に対する表面、表面下のダメージを最小限に抑えながら臭素メタノールや酸でポリッシングすることが出来ます。
CP3000は既存のドラフトチャンバーに収まる小型の装置です。CP4000はドラフトと一体型になっており、より安全に運用することが可能です。

  • 化合物半導体の表面仕上げに最適
  • 最大8インチウエハーに対応
  • 酸に耐えれる耐腐食性構造

アプリケーション

CP3000/4000は結晶構造に対する表面、表面下のダメージを最小限に抑えながら臭素メタノールや酸でポリッシングすることが出来ます。
CP3000は既存のドラフトチャンバーに収まる小型の装置です。CP4000はドラフトと一体型になっており、より安全に運用することが可能です。

  • 水銀カドミウムテルル(HgCdTe)
  • テルル化カドミウム(CdTe)
  • リン化インジウム(InP)
  • 硫化カドミウム(CdS)
  • ガリウムヒ素(GaAs)
  • その他、Ⅱ-Ⅵ、Ⅲ-Ⅴ族半導体

装置外観

装置外観
装置外観
装置外観

装置仕様

  CP3000 CP4000
電源 110V(50/60Hz)
高さ 660mm 1040mm
500mm 1270mm
奥行 680mm 760mm
プレート回転速度 0 – 70rpm
対応サンプルサイズ 3, 4インチ 3, 4, 6, 8インチ
重量 42kg 145kg

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