高速熱処理装置（RTP/RTA装置）
Allwin21社のRTP/RTA装置AccuThermoシリーズはAG Associates社AG Heatpulseシリーズの後継機種にあたる、デスクトップ型の最新型高速熱処理装置です。
強力な可視光線により、2インチ～8インチまでのシングルウェハを短時間かつ正確にコントロールされた温度で加熱処理します。
加熱チャンバーのCOLD-WALLデザイン、優れた加熱均一性、高度な温度制御技術、および最新の制御ソフトウェアにより、従来の加熱炉やRTPシステムと比較して圧倒的な優位性があります。
Allwin21社は米国Applied Materialの子会社であるMarton社より独占的なライセンス供与を受けてRTPシステムを製造しています。
ラインナップ
特徴
- コンパクトな卓上型システムで省スペース、省エネルギーです。
- ウェハサイズに合わせて、3種類のシステムをラインナップしました。(4インチ/6インチ/8インチ)
- 最高昇温速度200℃/秒、最高到達温度1,250℃のクローズドループ高速熱処理に対応。
- 最先端の温度制御アルゴリズムにより、オーバーシュート、アンダーシュートのない熱処理が可能。
- 優れたウェハ間温度プロファイル再現性。
- 広域レンジパイロメーター(非接触高温温度計)による高精度温度計測(オプション)
- 各種プロセスガス用に最大4つのMFC(マスフローメータ)を組み込み可能です。
- ガラス基板や、化合物半導体用に各種サセプタをご用意しております。
- 高度なレシピ設定、キャリブレーション機能によりR&Dのみならず、生産用途にもご使用いただけます。
アプリケーション
- LEDのRTA(高速アニール)
- 化合物半導体の各種熱処理
- 太陽電池セルの各種高速熱処理
- 酸化膜、窒化膜生成
- イオン打ち込み後の活性化
- 酸化物のリフロー
- シリサイド形成
- ポリシリコンのアニール
- LEDのRTA(高速アニール)
- 化合物半導体の各種熱処理
- 太陽電池セルの各種高速熱処理
- 酸化膜、窒化膜生成
- イオン打ち込み後の活性化
- 酸化物のリフロー
- シリサイド形成
- ポリシリコンのアニール
ソフトウエア
AccuThermoシリーズ用に完全にコンプリートされた、RTP/RTAソフトウエア。R&D用途から、生産用途まで対応します。
制御ソフトウエア
各種キャリブレーションプログラム
仕様
オプション
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